石墨舟和硅片哪個導電好,光伏膜涂層原理
時間:2023-03-02來源:uiqsx.cn
石墨舟和硅片哪個導電好
石墨舟導電性能明顯優(yōu)于硅片的導電性能,因此石墨舟和硅片在鍍膜過程中存在著明顯的競爭,導致石墨舟與硅片接觸的區(qū)域沉積速率低,形成嚴重的色差,以致電池片外觀不良和電學性能較差,因而必須對石墨舟進行氮化硅飽和處理,使石墨舟與硅片具有相近的導電性。
光伏膜涂層原理
一,等離子增強化學氣相沉積,等離子體是物質分子熱運動加劇,相互間的碰撞會導致氣體分子產生電離,物質就會變成自由運動并由相互作用的正離子、電子和中性粒子組成的混合物。
二,據(jù)測算,光在硅表面的反射損失率高達35%左右,減反膜可以極高地提高電池片對太陽光的利用率,有助于提高光生電流密度,進而提高轉換效率,同時薄膜中的氫對于電池片表面的鈍化降低了發(fā)射結的表面復合速率,減小了暗電流,提升了開路電壓,提高了光電轉換效率;在燒穿工藝中的高溫瞬時退火斷裂了一些Si-H、N-H鍵,游離出來的H進一步加強了對電池的鈍化。由于光伏級硅材料中不可避免的含有大量的雜質和缺陷,導致硅中少子壽命及擴散長度降低,從而導致電池的轉換效率下降,H能與硅中的缺陷或雜質進行反應,從而將禁帶中的能帶轉入價帶或者導帶。
三、PECVD原理
PECVD 系統(tǒng)是一組利用平行板鍍膜舟和高頻等離子激發(fā)器的系列發(fā)生器。在低壓和升溫的情況下,等離子發(fā)生器直接裝在鍍膜板中間發(fā)生反應。所用的活性氣體為硅烷SiH4和氨NH3。這些氣體作用于存儲在硅片上的氮化硅??梢愿鶕?jù)改變硅烷對氨氣的比率,來得到不同的折射指數(shù)。在沉積工藝中,伴有大量的氫原子和氫離子的產生,使得晶片的氫鈍化性十分良好。
在真空、480攝氏度的環(huán)境溫度下,通過對石墨舟的導電,使硅片的表面鍍上一層SixNy。3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2